中微公司:受益国产化与拓荆科技投资收益,预计EPS年复合增长率达30%
本次更新上调中微公司(688012.SS)的风险收益评估,核心驱动因素包括:中国半导体设备国产化结构性趋势、产品组合向CMP和EPI领域拓展、以及来自拓荆科技股权的经常性投资收益日益显著。核心设备增长与权益收入的叠加效应,预计将推动2026-2028年每股收益年复合增长率达到约30%。
国产化顺风与产品拓展支撑双位数营收增长。 中国本土晶圆厂持续扩建,为刻蚀和薄膜沉积设备带来稳定订单。预计2026年刻蚀设备收入达115.33亿元(同比增长22.5%),MOCVD设备收入达7.55亿元(同比增长22.6%)。除核心产品线外,公司通过收购SiZone Tech进入CMP领域,并已启动EPI设备及过程控制设备的研发。这些新增业务扩大了可触及市场,并为2028年后的营收增长开辟第二曲线。隐含的投资含义是:营收增长动力不仅依赖刻蚀周期;新产品上量可提升中期营收可见度并优化利润率结构。
来自拓荆科技的投资收益是比市场认知更大、更持续的利润贡献来源。 2026年和2027年的EPS预测各上调5%,主要反映来自拓荆科技股权的投资收益增强。2028年EPS预测首次给出10.31元,意味着约30%的同比增长。这一收入来源并非一次性收益:拓荆科技自身的设备业务同样受益于国产化趋势,因此股息和权益法收入具有经常性。2026年毛利率假设为39.9%,反映出产品组合向高端刻蚀产品倾斜。投资含义是:盈利由两大引擎支撑——核心经营杠杆与权益收入——从而降低单一来源风险,支撑高于市场平均的EPS增长。
残余收益模型下估值仍具吸引力,上行空间明确。 基于残余收益模型(权益成本6.2%,中期增长率14%,终值增长率4%)推导出的基准目标价为450元。这意味着较当前价格376.30元(2026年4月30日)有19.6%的上行空间。乐观情景目标价865元(对应2026年EPS的143倍),悲观情景目标价225元(对应2026年EPS的37倍),显示风险收益比有利。机构主动持股比例高达87.6%,96%的共识评级为“超配”,表明市场对该投资逻辑有广泛信心。实际操作含义是维持超配仓位,关键催化剂包括季度订单数据和拓荆科技投资收益的可见性。
该投资逻辑的主要风险。 全球半导体低迷可能放缓中国晶圆厂投资并减少设备需求。美国出口管制升级或国内存储客户技术迁移慢于预期,将给高端刻蚀出货带来压力。主要客户(尤其是存储厂商)扩产延迟将压缩利润和营收。竞争加剧或买方议价能力增强,可能导致毛利率跌破39.9%的假设。这些风险在一定程度上被多元化的产品基础和经常性投资收益所抵消,但仍需持续关注。
附录:关键盈利输入项
| (人民币百万元) | 2025 | 2026e | 2027e | 2028e |
|---|---|---|---|---|
| 刻蚀设备收入 | 9,419 | 11,533 | 14,112 | 15,961 |
| MOCVD设备收入 | 616 | 755 | 948 | 1,148 |
| MOCVD同比增速 | 62.6% | 22.6% | 25.5% | 21.1% |
附录:摩根士丹利预测 vs 市场共识(2026e)
| 摩根士丹利预测 | 共识低值 | 共识高值 | 共识均值 | |
|---|---|---|---|---|
| 营收(人民币百万元) | 16,236.7 | 15,548.3 | 18,094.7 | 16,633.7 |
| EBITDA(人民币百万元) | 2,980 | 2,189.0 | 4,432.4 | 3,452.3 |
| 净利润(人民币百万元) | 3,788 | 2,316.0 | 4,433.0 | 3,284.1 |
| 每股收益(人民币) | 6.05 | 3.8 | 7.1 | 5.2 |